Системы формирования наночастиц и нанопленок : Система осаждения наночастиц плазменно-дуговым методом серии APD

Новая система осаждения наночастиц использование импульсного вакуумного дугового разряда
Импульсное вакуумное дуговое осаждение является уникальной методикой осаждения ультратонких пленок и наночастиц путем образования ионов металлов в простой обработать. Эта система может достигать высоких с точки зрения плоскостности пленки и частиц, что невозможно в других системах.

Конструктивные особенности
• Возможность свободного выбора диаметра осаждаемых наночастиц: от около 1,5 нм до 6 нм, путем изменения емкости конденсатора
• Любые проводящие материалы (мишени) могут быть преобразованы в плазму.
• Удельное сопротивление материала мишени: не более 0,01 Ом см
• Возможность простого получения оксидов и нитридов путем изменения атмосферы осаждения.
• Наночастицы, осаждаемые этой системой, демонстрируют более высокие каталитические свойства по сравнению с продуктами, полученными во влажном процессе осаждения катализаторов

Области применения
• APD-S (модель для осаждения на подложки)
• Металлическая пленка (магнитные пленки, плазмонные пленки, защитная пленка)
• APD-P (модель для осаждения на порошковый носитель)
• Катализаторы топливных элементов с использованием наночастиц, катализаторы выхлопных газов, фотокатализаторы, диспергированные возгоняемые углеродные соединения
• катализатор, катализатор углеродных нанотрубок, плазмонные материалы

Технические характеристики