Системы формирования наночастиц и нанопленок : Плазменно-дуговая пушка для осаждения наночастиц APS-1
Одновременное осаждение с разных мишеней
Добавляя этот источник в существующую камеру системы АPD, либо в собственную вакуумную камеру заказчика, в итоге в камере могут быть размещены несколько различных мишеней, при этом можно получать материалы с новыми характеристиками.
Конструктивные особенности
- Из-за однородности размеров наночастиц по сравнению с теми, которые получают через предшествующий мокрый процесс, в итоге можно получить высокоактивные катализаторы.
- Возможность выбора диаметра наночастиц от примерно 1,5 до 6 нм Возможность простого получения оксидов и нитридов путем изменения атмосферы, в которой производится осаждение.
- Подходит для установки на вакуумный фланец ICF070 (VG50) или его эквивалент без учета направления, в котором производится распыление материала
- Простота обслуживания в связи с отсутствием необходимости обеспечения охлаждающей воды
Области применения
- Получение химических соединений при осаждении с нескольких мишеней
- Может устанавливаться в собственную вакуумную камеру заказчика
Технические характеристики
|
Размеры мишени |
Æ10 × длина 17 (мм) |
|
Размеры подложки |
Æ2 дюйма (Æ50 мм) |
|
Скорость осаждения |
0,01 ¸0,3 нм / с *1 |
|
Равномерность толщины пленки |
Fe: <± 10% (Æ20 мм) * 1 |
|
Материалы, доступные для осаждения |
Проводящие материалы * 2 |
*1 Расстояние от мишени до подложки: 80 мм
*2 Удельное сопротивление мишени: не более 0,01 Ом см
Одновременное осаждение с разных мишеней
Добавляя этот источник в существующую камеру системы АPD, либо в собственную вакуумную камеру заказчика, в итоге в камере могут быть размещены несколько различных мишеней, при этом можно получать материалы с новыми характеристиками.